AppleInsider: Intel は 2007年にも 45 ナノメートルチップを出荷する予定
Intel to ship 45-nanometer chips in 2007
By Kasper Jade
Published: Wednesday, January 25, 2006 04:55 PM EST
Intel は今週、2007年後半にも 45 ナノメートル （nm） 製造プロセスをベースにした初めての PC 向けプロセッサを大量出荷する予定だ、と明らかにした。
同社は水曜日、次期大量生産セミコンダクタ製造プロセスに 45nm 製造技術を採用し、初めて完全動作を実現したという SRAM （Static Random Access Memory） チップのデモンストレーションを行った。同社の声明によると、同チップは 10 億個以上のトランジスタを搭載しているとのこと。
Intel 製品としては紹介されなかったものの、同 SRAM チップは、45nm 製造プロセスを利用したその他の論理チップに先立って、プロセッサテクノロジーパフォーマンス、歩留まり、そして信頼性のデモンストレーションを行った*1。「世界でもっとも複雑な機器の大量生産に向けた最初の重要な一歩です」 と同社は語っている。
このマイルストーンに到達したことで、Intel は 2007年にもこの技術と共に 300nm ウエハーを用いたチップの製造に向けて歩み始めたことになり、2年毎に新しい世代のプロセッサを投入することでムーアの法則の限界を押し進めることに引き続き注力するようだ。
Intel は今日、65nm 製造技術を使った大量生産の分野で業界をリードする立場にある。同社は、アリゾナ州とオレゴン州に 2 つの製造施設を保有すると共に、アイルランドおよびオレゴン州にさらに 2 つの施設を準備中だ。
「65nm 製造技術を採用した大量生産で首位につけ、45nm チップを最初に手がけることで、チップテクノロジーおよび製造分野における Intel の主導的役割がより鮮明になりました」 と Intel Technology and Manufacturing Group。「Intel は、技術革新を人々の利益へと変換してきたという長い歴史を持っています。私たちの 45nm テクノロジーも、ユーザの体験を広げるような、ワットあたりのパフォーマンスを向上した PC を製造する基盤を提供することができるでしょう。」
Intel の 45nm 製造技術によって、漏れ電力を今日の 5 分の 1 にまで抑えられる、と同社は語っている。これによって、携帯機器のバッテリー駆動時間が延び、より小型ながらより強力なプラットフォームを構築する機会につながる。
オレゴン州にある同社の D1D 施設の製造能力に加えて、Intel は 45nm プロセッサ技術を用いたチップを製造するための 2 つの大量製造施設の建設 （アリゾナ州の Fab 32 およびイスラエルの Fab 28） を進めていることも明らかにしている。
